[发明专利]在衬底上形成多层凸起的方法无效

专利信息
申请号: 200610148685.X 申请日: 2006-10-31
公开(公告)号: CN1959531A 公开(公告)日: 2007-05-09
发明(设计)人: 萧喜铭;周安乐;黎戈 申请(专利权)人: 飞思卡尔半导体公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;B41M1/12;G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 秦晨
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于在衬底上形成多层凸起的方法,包含在衬底上沉积第一金属粉末,和有选择地熔化或者回流第一金属粉末的一部分以形成第一凸起。然后在第一凸起上沉积第二金属粉末,并熔化以在第一凸起上形成第二凸起。掩模板配置在衬底上方以选择熔化的金属粉末的部分,通过照射射束熔化金属粉末。在不需要任何湿化学制品的情况下形成多层凸起。
搜索关键词: 衬底 形成 多层 凸起 方法
【主权项】:
1.一种用于在衬底上形成双层凸起的方法,包括:在衬底上沉积第一金属粉末;熔化第一金属粉末以形成第一凸起;在至少第一凸起上方沉积第二金属粉末;和熔化第二金属粉末以在第一凸起上形成第二凸起,其中第一凸起和第二凸起形成双层凸起。
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