[发明专利]评估显影能力的方法无效
| 申请号： | 200610148811.1 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101211115A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 郁志芳;章磊;余云初;王跃刚 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种评估显影能力的方法，包括下列步骤：在控片上形成光刻胶层；测量光刻胶层得到第一厚度；对光刻胶层进行显影；测量显影后光刻胶层得到第二厚度；将光刻胶层的第一厚度减去第二厚度，获得光刻胶层的厚度差，厚度差越大显影能力越强。经过上述步骤，评估显影机台显影能力的成本降低；同时不影响实际工艺中半导体器件的质量，成品率提高。 | ||
| 搜索关键词： | 评估 显影 能力 方法 | ||
【主权项】：
1.一种评估显影能力的方法，其特征在于，包括下列步骤：在控片上形成光刻胶层；测量光刻胶层得到第一厚度；对光刻胶层进行显影；测量显影后光刻胶层得到第二厚度；将光刻胶层的第一厚度减去第二厚度，获得光刻胶层的厚度差，厚度差越大显影能力越强。
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