[发明专利]滤色片黑矩阵的制造方法有效
| 申请号： | 200610149411.2 | 申请日： | 2006-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN101013220A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | 金圣雄;金佑植;权启示;金相一 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造滤色片黑矩阵的方法。该方法包括：在透明基板上形成排斥墨的有机材料遮光层；通过构图该遮光层形成该黑矩阵；并且硬烘烤该黑矩阵，以保持在遮光层的形成中形成在黑矩阵中的气孔。 | ||
| 搜索关键词： | 滤色片黑 矩阵 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种滤色片的黑矩阵的制造方法，该方法包括：在透明基板上形成排斥墨的有机材料的遮光层；通过构图该遮光层来形成该黑矩阵；并且硬烘烤该黑矩阵，以在该遮光层的形成中保持形成在该黑矩阵中的多个气孔。
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