[发明专利]用于去除光刻胶的组合物及利用该组合物形成图案的方法有效
| 申请号： | 200610149823.6 | 申请日： | 2006-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN1967388A | 公开（公告）日： | 2007-05-23 |
| 发明（设计）人： | 吉埈仍;李锡浩;金敬喜;徐熙;具本旺;金旼永 | 申请（专利权）人： | 拉姆科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余刚 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形成图案的方法，该方法利用了用于去除光刻胶的组合物，在该方法中，在基板上形成层，然后在该层上形成光刻胶图案。利用光刻胶图案作为蚀刻掩膜，对从光刻胶图案露出的层的一部分进行蚀刻，以在基板上形成图案。然后，利用包括羟胺、链烷醇胺化合物、吗啉化合物、极性溶剂、防腐剂、和水的组合物去除光刻胶图案。该组合物可以在不损坏基板和/或包括金属、氮化物、氧化物和/或金属氮化物的图案的情况下，有效地去除光刻胶图案和蚀刻残余物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 光刻 组合 利用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于去除光刻胶的组合物，包括：羟胺；链烷醇胺化合物；吗啉化合物；极性溶剂；防腐剂；以及水。
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