[发明专利]电压模式电流控制方法以及系统无效
| 申请号： | 200610149874.9 | 申请日： | 2006-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1974124A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 斯坦·D·蔡;雷克什曼·卡鲁比亚 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B49/10;B24B29/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了电压模式电流控制的方法和设备。一种计算机辅助的方法包括：(a)在衬底的导电薄膜上开始ECMP抛光步骤；(b)设置电压源的当前输出电压，所述当前输出电压根据ECMP抛光步骤的菜单进行设置；(c)测量通过所述导电薄膜的电流；(d)基于所述测量的电流计算电流抛光速率；(e)基于目标抛光速率，确定是否需要调整当前输出电压；以及(f)当确定需要调整时，计算并实现对所述当前输出电压的所述调整。 | ||
| 搜索关键词： | 电压 模式 电流 控制 方法 以及 系统 | ||
【主权项】：
1.一种计算机执行的方法，包括：(a)在衬底的导电薄膜上开始电化学机械抛光的抛光步骤；(b)设置电压源的当前输出电压，该当前输出电压根据所述电化学机械抛光的抛光步骤的菜单进行设定；(c)测量通过所述导电薄膜的电流；(d)基于所述测量的电流计算当前抛光速率；(e)基于目标抛光速率确定是否需要调整所述当前输出电压；以及(f)当确定需要调整时，计算并实现对该当前输出电压的所述调整。
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