[发明专利]用于形成特征定义的方法无效
| 申请号： | 200610149977.5 | 申请日： | 2006-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN1952782A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 乔格·林茨 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 肖善强 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种通过如下操作处理衬底的方法：在所述衬底的表面上沉积负性掩模材料；将所述负性掩模材料刻蚀到所述衬底表面，以形成负性掩模特征定义；在所述负性掩模特征定义中沉积抗蚀剂材料；抛光所述抗蚀剂材料，以暴露所述负性掩模材料；以及刻蚀所述负性掩模材料，以在所述抗蚀剂材料中形成特征定义。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 特征 定义 方法 | ||
【主权项】：
1.一种处理衬底的方法，包括：在所述衬底的表面上沉积负性掩模材料；在所述负性掩模材料上沉积抗蚀材料；图案化所述抗蚀材料以暴露所述负性掩模材料；刻蚀所述暴露的负性掩模材料，以形成负性掩模特征定义；去除所述抗蚀材料；在所述负性掩模特征定义中和在所述负性掩模材料上沉积抗蚀剂材料；抛光所述抗蚀剂材料，以暴露所述负性掩模材料；以及刻蚀所述负性掩模材料，以在所述抗蚀剂材料中形成特征定义。
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