[发明专利]一种可减少对成像设备电磁干扰的超声治疗系统有效

专利信息
申请号: 200610150289.0 申请日: 2006-10-16
公开(公告)号: CN101164637A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: 蒋光红;覃华昌;付英述;彭友湘 申请(专利权)人: 重庆融海超声医学工程研究中心有限公司
主分类号: A61N7/00 分类号: A61N7/00;A61B18/00;A61B17/00;A61B5/055
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 罗建民;张天舒
地址: 401121重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明公开了一种可减少对成像设备电磁干扰的超声治疗系统,包括成像设备、超声治疗装置及电气控制单元,超声治疗装置包括超声治疗头及其运动定位单元,所述运动定位单元中有控制超声治疗头运动的驱动电机,其中,驱动电机设置在驱动电机的电磁波对成像设备的干扰影响区域以外,驱动电机通过传动单元与超声治疗头连接。驱动电机可以设置在距成像设备的成像区域中心点2米的距离以外。本发明治疗系统可有效减少对成像设备产生电磁干扰,从而实现超声治疗设备与MRI设备的电磁兼容。
搜索关键词: 一种 减少 成像 设备 电磁 干扰 超声 治疗 系统
【主权项】:
1.一种可减少对成像设备电磁干扰的超声治疗系统,包括成像设备、超声治疗装置及电气控制单元,超声治疗装置包括超声治疗头(5)及其运动定位单元,所述运动定位单元中有控制超声治疗头运动的驱动电机,其特征在于驱动电机设置在驱动电机的电磁波对成像设备的干扰影响区域以外,驱动电机通过传动单元与超声治疗头(5)连接。
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