[发明专利]一种耐热负性光刻胶的制备方法

摘要

一种耐热负性光刻胶的制备方法，它涉及利用原料精制、调胶、过滤和预烘成膜四个工艺制备耐热的负性光刻胶胶膜。本发明以聚环化丁二烯为胶液基体，以2，6－双(叠氮亚苄基)4－甲基环己酮为交联剂，以二苯甲酮为光敏剂，以环己烷为溶剂，通过原料精制、调胶和过滤工艺和预烘成膜四个工艺，得到紫外光固化的耐热负性光刻胶。该发明得到的紫外光固化的耐热负性光刻胶需要在96℃下前烘30分钟，得到的胶膜颜色透明，刻蚀图形分辨率(感光度小于5mJ/cm²下测试)小于2μm，胶膜针孔密度(胶膜厚度为1.0μm下测试)小于0.4个/cm²，留膜率达95％，在235℃下胶膜不会发生变形和流动，且在－30℃下贮存六个月仍保持光刻胶的使用性能。

主权项

1.一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于以聚环化丁二烯为胶液基体，以2，6-双(叠氮亚苄基)4-甲基环己酮为交联剂，以二苯甲酮为光敏剂，以环己烷为溶剂，通过原料精制、调胶和过滤工艺，可得到紫外光固化的耐热负性光刻胶。