[发明专利]用于影响光线的装置有效
| 申请号： | 200610151371.5 | 申请日： | 2006-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN1975549A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | 维塔利杰·利索塔奇恩库;阿里克西·米科哈洛夫;尤瑞·米科利阿维;麦克希姆·达什特 | 申请（专利权）人： | 翰兹－利索兹切科专利管理有限公司及两合公司 |
| 主分类号： | G02F1/29 | 分类号： | G02F1/29;G02B3/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 德国盖*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及影响光线的装置，包括第一透镜元件阵列(1)，要被影响的光线可以至少部分地穿过这些透镜元件；第一相位改变元件阵列(3)，它们可以改变穿过第一透镜元件阵列(1)中各个透镜元件的光线的相位；第二透镜元件阵列(9)，被相位改变元件改变了相位的光线可至少部分地通过这些透镜元件，其中第二透镜元件阵列(9)如此设置在装置中，使得要被影响的光线的多个局部强度最大值可形成在要被影响的光线的传播方向(Z)上第二透镜元件(9)的范围内；第一透镜元件，它被设置在第一透镜元件阵列(1)与第二透明元件阵列(9)之间；以及第二透镜元件(22)，它被设置在第一透镜元件(5)与第二透镜元件阵列(9)之间，其中第一相位改变元件阵列(3)被设置在第一透镜元件(5)与第二透镜元件(22)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 影响 光线 装置 | ||
【主权项】：
1.影响光线(6)的装置，包括：—透镜元件(2)的第一阵列(1，1a，1b，1a1，1a2，1b1，1b2)，要被影响的光线可以至少部分地穿过这些透镜元件；—相位改变元件(4)的第一阵列(3，3a，3b)，这此元件可改变穿过透镜元件(2)的第一阵列(1，1a，1b，1a1，1a2，1b1，1b2)的各个透镜元件(2)的光线(6)的相位；—透镜元件(10)的第二阵列(9，9a，9b，9a1，9a2，9b1，9b2)，穿过相位改变元件(4)的第一阵列(3，3a，3b)的光线可以至少部分地穿过这些透镜元件，其中透镜元件(10)的第二阵列(9，9a，9b，9a1，9a2，9b1，9b2)被如此设置在装置中，使得要被影响的光线(6)的多个局部强度最大值(17)可形成在要被影响的光线(6)的传播方向(Z)上透镜元件(10)的第二阵列(9，9a，9b，9a1，9a2，9b1，9b2)的前面或者在透镜元件(10)的第二阵列(9，9a，9b，9a1，9a2，9b1，9b2)的范围内；—第一透镜元件(5)，所述第一透镜元件被设置在透镜元件(2)的第一阵列(1，1a，1b，1a1，1a2，1b1，1b2)与透镜元件(10)的第二阵列(9，9a，9b，9a1，9a2，9b1，9b2)之间；其特征在于，相位改变元件(4)的第一阵列(3，3a，3b)被设置在要被影响的光线(6)的传播方向(Z)上第一透镜元件(5)的后面。
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