[发明专利]具有特定孔径分布的沉淀二氧化硅有效

专利信息
申请号: 200610151380.4 申请日: 2006-09-08
公开(公告)号: CN1927712A 公开(公告)日: 2007-03-14
发明(设计)人: O·施滕策尔;H·-D·卢金斯兰德;S·乌尔兰德特;A·韦迈尔 申请(专利权)人: 德古萨公司
主分类号: C01B33/113 分类号: C01B33/113
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 周铁;梁谋
地址: 德国杜*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及其中孔具有特别宽的孔径分布的沉淀二氧化硅,其中孔的孔径小于孔体积分布函数的导数的最大值,该沉淀二氧化硅同时具有低微孔率和高橡胶活性,还涉及它们的制造工艺和它们作为橡胶混合物填料的应用。
搜索关键词: 具有 特定 孔径 分布 沉淀 二氧化硅
【主权项】:
1.一种用于制造二氧化硅的工艺,其特征在于相继进行以下步骤:a)作为初始进料使用碱金属硅酸盐和/或碱土金属硅酸盐和/或有机和/或无机碱的水溶液,该初始进料的碱值为20-40,b)在55-85℃和搅拌条件下向此初始进料中同时计量添加碱金属硅酸盐和/或碱土金属硅酸盐和酸化剂直至粘度升高,c)中断进料35到85分钟,优选地同时保持在阶段b)结束时所达到的温度,d)在55-85℃下接着同时计量添加碱金属硅酸盐和/或碱土金属硅酸盐和酸化剂,优选地是在与阶段b)或c)结束时相同的温度下进行添加,直至达到90-140g/l的固体含量,g)在80-98℃继续搅拌所获得的悬浮液1-120分钟,h)用酸化剂酸化到pH为2.5-5.0,以及i)进行过滤和干燥。
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