[发明专利]防止微粒附着装置和等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。

主权项

1.一种等离子体处理装置，其特征在于：包括：放置由等离子体进行处理的部件的载置台；导入等离子体生成用的气体的气体导入部；和将等离子体生成用的电力供给所述气体的电力供给部；所述电力供给部，在最初将生成等离子体所需要的最小限度的电力供给所述气体，生成最小限度的等离子体，然后，增加所述电力，生成处理所述部件所需要的等离子体。