[发明专利]制造半导体器件的方法有效
| 申请号： | 200610151880.8 | 申请日： | 2006-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN1933115A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 山崎靖 | 申请（专利权）人： | 尔必达存储器株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/336 | 分类号： | H01L21/336;H01L21/8242 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谷惠敏;钟强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 用于制造半导体器件的方法包括以下步骤：在半导体基片中形成栅沟道；在栅沟道的内壁中形成栅绝缘膜；至少向栅沟道内填充栅极材料；通过构图栅极材料形成栅极；和在与栅沟道相邻的半导体基片的规定位置使用掩模，在构图栅极材料前选择地形成穿通制止区。形成穿通制止区的步骤可在向栅沟道填充栅极材料步骤后或在形成栅沟道步骤前进行。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 半导体器件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造半导体器件的方法，包括以下步骤：在半导体基片中形成栅沟道；在所述栅沟道的内壁中形成栅绝缘膜；至少向所述栅沟道内填充栅极材料；通过构图所述栅极材料形成栅极；和在与所述栅沟道相邻的所述半导体基片的规定位置使用掩模，在构图所述栅极材料前选择地形成穿通制止区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
