[发明专利]等离子体显示面板及其制造方法无效
| 申请号： | 200610152403.3 | 申请日： | 2006-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN1949435A | 公开（公告）日： | 2007-04-18 |
| 发明（设计）人： | 黄镛式;金贞男;辛慧媛;梁鹤哲;曺台升 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | H01J9/00 | 分类号： | H01J9/00;H01J9/02;H01J17/49 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周艳玲;朱登河 |
| 地址： | 韩国京畿道水*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了等离子体显示面板(PDP)及其制造方法，该等离子体显示面板具有的放电室结构可实现高清晰度和高效率，所述制造方法包括：在基板上形成第一电极；在基板上形成覆盖第一电极的第一介电层；形成覆盖第一介电层的第二介电层；在第二介电层上涂覆抗蚀剂；对抗蚀剂进行构图；用经过构图的抗蚀剂作为保护层，蚀刻第二介电层，以形成用于电极形成的凹入区和用于放电空间形成的凹入区；用电极糊填充用于电极形成的凹入区，以形成第二电极和第三电极；以及在第二介电层的一部分上形成第三介电层，以覆盖填充有电极糊的用于电极形成的凹入区。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 显示 面板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种等离子体显示面板(PDP)的制造方法，包括：在基板上形成第一电极；在基板上形成覆盖第一电极的第一介电层；形成覆盖第一介电层的第二介电层；在第二介电层上涂覆抗蚀剂；对抗蚀剂进行构图；用经过构图的抗蚀剂作为保护层，蚀刻第二介电层，以形成用于电极形成的凹入区和用于放电空间形成的凹入区；用电极糊填充用于电极形成的凹入区，以形成第二电极和第三电极；以及在第二介电层的一部分上形成第三介电层，以覆盖填充有电极糊的用于电极形成的凹入区。
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