[发明专利]用于浸润式微影的光阻材料及浸润式微影方法有效
| 申请号： | 200610152428.3 | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1940721A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种浸润式微影的方法及其光阻材料，其中此光阻材料包含聚合物、光酸产生剂以及抑制剂。聚合物与酸反应后，能溶解于碱性溶液中。光酸产生剂吸收辐射后，能分解形成酸。抑制剂能中和酸且流动性低。因此，此光阻材料能避免浸润式微影中的水纹缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 浸润 式微 材料 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于浸润式微影的光阻材料，其特征在于其包含：一聚合物，该聚合物与一酸反应后，能溶解于一碱性溶液中；一光酸产生剂，该光酸产生剂在吸收一辐射后，能分解形成该酸；以及一抑制剂，该抑制剂能中和该酸且流动性低，其中该抑制剂在该光阻中的重量百分浓度高于0.5％。
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