[发明专利]掩膜形成方法及信息记录媒体制造方法无效
| 申请号： | 200610153611.5 | 申请日： | 2006-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN1928994A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 海津明政;大场和晴;藤田实;高井充 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沈昭坤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能降低掩膜的形成成本的掩膜形成方法。将形成凹凸图形的掩模形成在中间体10之上时，依次实行在中间体10之上涂布紫外线硬化型的涂液(放射性硬化型的涂液)，从而形成涂膜31的涂膜形成处理，对涂膜31照射紫外线52a(放射线)的紫外线照射处理(放射线照射处理)，以及将压模中的凹凸图形的形成面压到所述涂膜31上，使压模的凹凸图形转写到涂膜31的图形转写处理，从而形成掩膜的凹凸图形。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 信息 记录 媒体 制造 | ||
【主权项】：
1一种形成掩模的凹凸图形的掩模形成方法，其特征在于，将形成凹凸图形的掩模形成在基材之上时，依次实行在所述基材上涂布放射线硬化型的涂液，从而形成涂膜的涂膜形成处理，对所述涂膜照射放射线的放射线照射处理，以及将压模中的凹凸图形的形成面压到所述涂膜上，使该凹凸图形转写到该涂膜上的图形转写处理。
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