[发明专利]MALDI试样板成像工作站无效
| 申请号： | 200610154102.4 | 申请日： | 2006-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN1928549A | 公开（公告）日： | 2007-03-14 |
| 发明（设计）人： | 琼－鲁克·图克;格雷戈·T·欧瓦内;威廉·D·费希尔;理查德·P·特利亚 | 申请（专利权）人： | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/72 | 分类号： | G01N30/72;H01J49/26 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王怡 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种装置，用于产生离子源外部的离子源试样板的全局表面的图像。一般而言，该装置包含离子源试样板、成像器件(例如，CCD或CMOS照相机)和照射器件，照射器件被配置为产生光束，该光束照射试样板表面，从而限定了该光束和试样板表面之间的掠角。该装置可以位于远离离子源的位置。 | ||
| 搜索关键词： | maldi 试样 成像 工作站 | ||
【主权项】：
1.一种用于对离子源外部的离子源试样板的全局表面成像的装置，包括：离子源外部的离子源试样板；与所述试样板隔离开的成像器件，用于产生所述试样板的全局表面的图像；以及与所述试样板相邻近的用于照射所述表面的照射器件，所述照射器件用于产生光束，所述光束照射所述试样板表面以限定所述光束和所述试样板表面之间的掠角。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安捷伦科技有限公司，未经安捷伦科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610154102.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于抽取组织液的取样模块
- 下一篇：椭圆型不锈钢及铝复合散热器
