[发明专利]X光生成方法和X光生成装置无效
申请号: | 200610154212.0 | 申请日: | 2006-09-14 |
公开(公告)号: | CN1933090A | 公开(公告)日: | 2007-03-21 |
发明(设计)人: | 坂部知平 | 申请(专利权)人: | 坂部知平;坂部贵和子 |
主分类号: | H01J35/08 | 分类号: | H01J35/08;H01J35/10;H05G1/52;H05G2/00;G01N23/223 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 蒋世迅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在围绕旋转轴旋转对阴极的同时沿着对阴极的旋转轴重复移动对阴极。接着,把能量射束照射到其所处位置正对对阴极的旋转生成的离心力的对阴极的表面部分上,从而通过把所述表面部分加热到接近对阴极的熔点或超过对阴极的熔点使该表面部分部分熔化,由此生成离开旋转对阴极的X光。 | ||
搜索关键词: | 生成 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于生成X光的方法,该方法包括以下步骤:沿着对阴极的旋转轴重复移动所述对阴极,同时围绕所述旋转轴旋转所述对阴极;以及把能量射束照射到其所处位置克服所述对阴极的旋转生成的离心力的所述对阴极的表面部分,从而通过把所述表面部分加热到接近所述对阴极的熔点或超过所述对阴极的熔点使所述表面部分部分熔化,由此从所述旋转对阴极生成X光。
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