[发明专利]一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法有效
| 申请号： | 200610155974.2 | 申请日： | 2006-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN101016634A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | 魏国军;陈林森;周小红;浦东林;解正东 | 申请（专利权）人： | 苏州大学;苏州苏大维格数码光学有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/00 | 分类号： | C25D1/00;C25D5/02;B44C1/04;G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215006江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法，包括下列步骤：(1)在金属滚筒上涂布光刻胶，在光刻胶上制作微结构掩膜，通过显影去除感光部分至露出金属表层；(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中，连接至电源阴极，进行金属电沉积，沉积厚度为150～500纳米；(3)从电铸溶液中取出金属滚筒，去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。本发明通过光刻与电铸的结合实现了具有表面浮雕结构的金属滚筒的制作，不需要进行平版卷绕拼接，不会产生拼缝，且可以获得高硬度的浮雕微结构，因而特别适用于高速连续滚动式模压复制；同时，金属光栅深度可以得到控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 表面 浮雕 微结构 金属 滚筒 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种具有表面浮雕微结构金属滚筒的制作方法，包括下列步骤：(1)在金属滚筒上涂布光刻胶，在光刻胶上制作微结构掩膜，通过显影去除感光部分至露出金属表层；(2)将上述处理后的金属滚筒置于电铸溶液中，连接至电源阴极，进行金属电沉积，沉积厚度为150～500纳米；(3)从电铸溶液中取出金属滚筒，去除剩余的光刻胶即得到具有表面浮雕微结构的金属滚筒。
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