[发明专利]磁记录介质及其制造方法有效
| 申请号： | 200610159544.8 | 申请日： | 2006-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN1941091A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 萩野谷千积;安藤拓司;荻野雅彦 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/667;G11B5/738;G11B5/84;B29C43/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李涛;钟强 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 为了制造廉价的高密度磁记录介质，本申请提供一种高－密度磁记录介质，由平坦的衬底101、具有周期性凹陷－突出结构的非磁性中间体114以及在该中间体上形成的磁薄膜111构成。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.磁记录介质，其包括平坦的衬底，在所述衬底的至少一个表面上形成的非磁性中间体，以及在所述非磁性中间体上形成的磁记录层，其中所述非磁性中间体具有对应于其表面上的磁道间距或位周期的凹陷-突出结构。
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