[发明专利]青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺无效
| 申请号： | 200610159739.2 | 申请日： | 2006-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN1923404A | 公开（公告）日： | 2007-03-07 |
| 发明（设计）人： | 王国利 | 申请（专利权）人： | 王国利 |
| 主分类号： | B22C3/00 | 分类号： | B22C3/00;C22C9/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 024000内蒙古*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺，主要在壳模制造和青铜合金配方上进行了改进，在壳模内层涂料里加入稀土元素镥，在青铜合金里加入了稀土元素钇。该工艺提高了壳模内壁的光滑度和保温性能，降低了青铜合金熔液的粘稠度，在浇注过程中容易充型，从而提高青铜合金熔液的充腔速度，能够铸造出花纹细腻、没有冷隔和气孔的薄壁镂空长流程青铜器工艺品。 | ||
| 搜索关键词： | 青铜器 薄壁 镂空 流程 铸造 工艺 | ||
【主权项】：
1、一种青铜器薄壁镂空长流程铸造工艺，包括制备模型、制备壳模、去蜡、焙烧、熔炼、浇注、取出铸件工艺步骤，其特征在于：制备壳模的涂料包括内层涂料、中层涂料和外层涂料，内层涂料含有稀土镥元素，这种涂料由如下重量份配比的成分构成：硅溶胶60-80、刚玉粉20-30、氧化镥0.1-0.5；中层涂料由如下重量份配比的成分构成：硅溶胶60-80、炭化硅20-30；外层涂料由如下重量份配比的成分构成：硅溶胶60-80、石英20-30。
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