[发明专利]用于确定局部线圈位置的方法和控制装置

摘要

本发明涉及一种在磁共振断层造影装置(3)内的至少一个空间方向(z)上确定局部线圈(4，4’)在卧榻(2)上的位置(Ps)的方法，其中，从利用所涉及的局部线圈(4，4’)进行的用于拍摄检查对象(O)的磁共振图像和/或用于在卧榻(2)对断层造影装置(3)的不同位置上测量其它系统参数的磁共振测量中提取信号强度值(I)；确定提取的信号强度值(I)与卧榻(2)相对于断层造影装置(3)的位置(P_T)的函数相关性；最后，基于所确定的函数相关性来确定局部线圈(4，4’)在卧榻(2)上的位置(Ps)。此外本发明还涉及一种相应的用于磁共振系统的控制装置(6)，用于确定局部线圈(4)在卧榻(2)上的位置(Ps)。

主权项

1.一种用于在磁共振断层造影装置(3)内的至少一个空间方向(z)上确定局部线圈(4，4’)在卧榻(2)上的位置(Ps)的方法，其中，-首先从利用所述局部线圈(4，4’)进行的用于拍摄检查对象(O)的磁共振图像和/或用于在卧榻(2)相对于断层造影装置(3)的不同位置上测量其它系统参数的磁共振测量中分别提取出一个信号强度值(I)；-然后确定提取的信号强度值(I)与卧榻(2)相对于断层造影装置(3)的位置(PT)的函数相关性；以及-最后，基于所确定的函数相关性来确定局部线圈(4，4’)在卧榻(2)上的位置(Ps)。