[发明专利]含有硒及/或碲、并含有钌及/或铑的处理物的浸出方法无效
| 申请号： | 200610160347.8 | 申请日： | 2006-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101045958A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | 永井灯文;河野雄仁 | 申请（专利权）人： | 日矿金属株式会社 |
| 主分类号： | C22B3/04 | 分类号： | C22B3/04;C22B3/12;C22B7/00;C22B11/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明发现一种将含有硒及/或碲的还原残渣中所包含的钌及/或铑浓缩的方法。是含有硒及/或碲、并含有钌及/或铑的处理物的浸出方法，使至少含有硒及/或碲、并含有钌及/或铑的残渣成为55～150g/L的浆液浓度，向相对于硒及/或碲的摩尔数的合计氢氧化钠的摩尔数为2～5倍的水溶液中吹入空气，通过在银－氯化银电极基准的氧化还原电势成为－150～－240mV的时点中止浸出处理，从而在浸出液中分离硒及/或碲，将以浓缩率计为4倍以上的钌及/或铑留在残渣中。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 处理 浸出 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含有硒及/或碲、并含有钌及/或铑的处理物的浸出方法，其特征在于，使至少含有硒及/或碲、并含有钌及/或铑的残渣成为55～150g/L的浆液浓度，向相对于硒及/或碲的摩尔数的合计氢氧化钠的摩尔数为2～5倍的水溶液中吹入空气，通过在银-氯化银电极基准的氧化还原电势成为-150～-240mV的时点中止浸出处理，从而在浸出液中分离硒及/或碲，将以浓缩率计为4倍以上的钌及/或铑留在残渣中。
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