[发明专利]可反射出色域的电极结构以及单晶硅面板与显示装置无效
| 申请号： | 200610162854.5 | 申请日： | 2006-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN101191963A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 官大双;范纯圣 | 申请（专利权）人： | 联诚光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/133;G03B21/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种电极结构，包括一基板、一电极结构层以及一色域反射层。基板上包括已形成的一电路。电极结构层位于基板上与该电路耦接。色域反射层位于电极结构层上。当一入射光入射于该色域反射层与该电极结构层时，该色域反射层用以仅会反射特定的一光域。依照所述电极结构，可以制造出反射式单晶硅面板，以及投射式显示装置。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 出色 电极 结构 以及 单晶硅 面板 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种电极结构，包括：一基板，包括已形成的一电路；一电极结构层，形成于该基板上与该电路耦接；以及一色域反射层，形成于该电极结构层上，其中当一入射光入射于该色域反射层与该电极结构层时，该色域反射层用以仅会反射特定的一光域。
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