[发明专利]磁阻装置有效
| 申请号： | 200610162906.9 | 申请日： | 2006-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101089953A | 公开（公告）日： | 2007-12-19 |
| 发明（设计）人： | 大卫·威廉姆斯;约尔格·翁德里;安德鲁·特鲁普;大卫·哈斯科 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G11B5/39 | 分类号： | G11B5/39;H01L43/08;G01R33/09 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 钟晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁阻装置(1)包括由硅形成的细长沟道。包含硅化钛的导体(6)是沿着沟道与沟道相连接，并且引线(81、82、83、84、85、86)在相反的边相连接并沿着隔离开。 | ||
| 搜索关键词： | 磁阻 装置 | ||
【主权项】：
1.一种包括含非铁磁性半导体材料的沟道(2；27)的磁阻装置(1；26)，所述沟道从第一端(3；28)延伸到第二端(4；29)；导体(6；31)含有具有比半导体材料更高的电导率的非铁磁性材料，并且连接沟道的至少两个部分和多个引线(81、82、83、84、85、86；331、332、333、334)，所述引线连接沟道并且沿着沟道间隔开来。
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