[发明专利]涂布、显影装置和涂布、显影方法

摘要

本发明提供一种涂布、显影装置，在基板上涂布抗蚀剂液形成抗蚀剂膜，对于在其表面上形成液层、液浸曝光后的基板进行显影处理，抑制由抗蚀剂膜的变质引起的晶片间的差异。在上述装置中，设有洗净形成有抗蚀剂膜的基板的表面的洗净部；和从上述洗净部取出基板，搬送至用于进行液浸曝光的曝光装置中的搬送构件。控制上述搬送构件，使得在上述洗净部中，从洗净液与基板表面接触的时刻至将该基板搬入曝光装置中的时间为预先设定的设定时间，即，在从将上述洗净液供给到上述基板表面的时刻开始的经过时间与该基板表面上洗净液的接触角变化的关系中，在接触角的降低速度与刚刚接触后相比大幅度减小的时间带内，对基板进行液浸曝光。

主权项

1.一种涂布、显影装置，在基板上涂布抗蚀剂液形成抗蚀剂膜，对液浸曝光后的基板进行显影处理，其特征在于：包括：洗净部，洗净形成有抗蚀剂膜的基板的表面；搬送构件，从该洗净部取出基板，搬送至用于进行液浸曝光的曝光装置中；和控制部，控制所述搬送构件，使得在所述洗净部中，从洗净液与基板表面接触的时刻至将该基板搬入曝光装置中的时间为预先设定的设定时间，所述设定时间为设定的时间，使得从将所述洗净液供给到所述基板表面的时刻开始的经过时间与该基板表面上洗净液的接触角之间的关系中，在接触角的降低速度与刚刚接触后相比大幅度减少的时间带内，对基板进行液浸曝光。