[发明专利]半导体器件的制造方法有效
申请号: | 200610163794.9 | 申请日: | 2006-12-04 |
公开(公告)号: | CN1976005A | 公开(公告)日: | 2007-06-06 |
发明(设计)人: | 青木智幸;田村友子;鹤目卓也;大力浩二 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L21/84 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;梁永 |
地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种半导体器件的制造方法。在第一衬底之上形成多个第一半导体集成电路、多个第二半导体集成电路,其每一个被设置为与该多个第一半导体集成电路的一个相邻、多个第三半导体集成电路,其每一个被设置为与该多个第一半导体集成电路的一个和该多个第二半导体集成电路的一个相邻、以及多个第四半导体集成电路,其每一个被设置为与该多个第一半导体集成电路的一个、该多个第二半导体集成电路的一个、和该多个第三半导体集成电路的一个相邻。形成第一保护层以覆盖第一半导体集成电路和第一半导体集成电路外围的第二衬底的表面。分割第二衬底和保护层以便该多个第一半导体集成电路被分成单独的块并且部分第二衬底留在第一半导体集成电路的外围。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件的制造方法,包括:在第一衬底之上形成多个第一半导体集成电路、和多个第二半导体集成电路,其被设置以包围该多个第一半导体集成电路中的至少一个;粘附第二衬底以覆盖该多个第一半导体集成电路和该多个第二半导体集成电路;通过在第一衬底和第二衬底之间施加外力使第一衬底和第二衬底彼此分开,由此该多个第一半导体集成电路被转移到第二衬底;形成保护层以覆盖该多个第一半导体集成电路和在该多个第一半导体集成电路的外围的第二衬底的表面;以及将第二衬底和保护层分割以便该多个第一半导体集成电路被分成单独的块并且部分第二衬底保留在该多个第一半导体集成电路的外围。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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