[发明专利]进行晶片水平的非箝位感性切换试验的结构和方法有效

专利信息
申请号: 200610163980.2 申请日: 2006-11-29
公开(公告)号: CN1982909A 公开(公告)日: 2007-06-20
发明(设计)人: 雷燮光;安荷叭剌 申请(专利权)人: 万国半导体股份有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26;G01R31/00;H01L21/66
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 张静洁
地址: 百慕大哈密尔*** 国省代码: 百慕大群岛;BM
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用于在由栅驱动器驱动的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)器件上进行非箝位感性试验的电路。该电路包括用于测量随着从栅驱动器输入到MOSFET器件的脉冲宽度的增加而增加的非箝位感性试验(UIS)电流的电流传感电路,其中所述电流传感电路被提供来在达到预定的UIS电流时截止所述栅驱动器。该试验电路进一步包括连接到MOSFET器件的漏极,用于测量被用来在所述UIS试验期间探测MOSFET失效的漏电压变化的MOSFET失效探测电路。该试验电路进一步包括用于切换施加到所述MOSFET器件的电源的开/关的第一开关和在MOSFET的源漏极之间连接的第二开关。另外,该试验电路进一步包括用于接收来自MOSFET失效探测电路的MOSFET失效信号以及在UIS试验下探测到UIS失效时控制第一和第二开关切断施加到MOSFET器件的电源以防止探针损坏的定时和先合后开(MBB)电路。
搜索关键词: 进行 晶片 水平 箝位 感性 切换 试验 结构 方法
【主权项】:
1.一种用于在由栅驱动器驱动的金属氧化物半导体场效应晶体管器件上进行非箝位感性试验的电路,其特征在于,该电路包括:用于测量随着从所述栅驱动器输入到所述MOSFET器件的脉冲宽度的增加而增加的非箝位感性电流的电流传感电路,其中所述电流传感电路被提供来在达到预定的非箝位感性电流时截止所述栅驱动器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于万国半导体股份有限公司,未经万国半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610163980.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top