[发明专利]滤色器掩模布局无效
申请号: | 200610164690.X | 申请日: | 2006-12-14 |
公开(公告)号: | CN1983027A | 公开(公告)日: | 2007-06-20 |
发明(设计)人: | 姜在贤 | 申请(专利权)人: | 东部电子股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;G03F1/00;G02B5/23;G02F1/1335;G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郑小军 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明的实施例涉及一种滤色器掩模布局,其能够通过在制造滤色器的过程中防止发生角部圆化而降低SNR。在所述实施例中,该滤色器掩模布局可以包括:蓝色滤色器掩模图案,其设置于中心部;红色滤色器掩模图案,其沿该蓝色滤色器掩模图案的对角线方向设置以便与该蓝色滤色器掩模图案隔开;绿色滤色器掩模图案,其沿该蓝色滤色器掩模图案的对角线方向设置以便与该蓝色滤色器掩模图案隔开,以及校正掩模图案,其安装于该绿色滤色器掩模图案的角部处,用以进行光学邻近校正。 | ||
搜索关键词: | 滤色器掩模 布局 | ||
【主权项】:
1.一种掩模布局,包括:蓝色滤色器掩模图案;红色滤色器掩模图案;绿色滤色器掩模图案;以及校正掩模图案,其构造成用于提供光学邻近校正,并且形成于绿色、蓝色及红色滤色器掩模图案中的至少一个图案的至少一个角部上。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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