[发明专利]气体注射装置

摘要

本发明公开了一种气体注射装置，包括喷嘴，喷嘴设置在反应腔室的上盖板的安装孔中，包括中心气体通道和周边气体通道，安装孔的上部与喷嘴紧配合，中部与喷嘴之间形成密封空腔，密封空腔的上部与周边气体通道相通，下部与反应腔室相通。气体通道不是完全设置在喷嘴上，而是一部分气体通道由喷嘴与上盖板配合而成。使喷嘴的结构简单、易于加工，密封空腔对气体起到稳流和缓冲的作用，有利于气体分布均匀性。尤其适用于半导体晶片加工设备的供气系统中，也适用于其它场合的供气。

主权项

1.一种气体注射装置，用于向反应腔室供气，包括喷嘴，所述反应腔室上设有安装孔，所述喷嘴设置在安装孔中，其特征在于，所述的喷嘴上设有多条气体通道，所述的多条气体通道包括中心气体通道和周边气体通道，所述中心气体通道设于喷嘴的中部，所述周边气体通道设于喷嘴的边缘部位；所述的安装孔的上部与喷嘴紧配合，中部与喷嘴之间形成密封空腔；所述密封空腔的上部与周边气体通道相通，下部与反应腔室相通。