[发明专利]氧化物p-i-n结器件及其制备方法无效
申请号: | 200610164954.1 | 申请日: | 2006-12-08 |
公开(公告)号: | CN101197396A | 公开(公告)日: | 2008-06-11 |
发明(设计)人: | 赵柏儒;袁洁;吴昊;曹立新;许波;赵力;金魁;朱北沂 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L29/868 | 分类号: | H01L29/868;H01L29/82;H01L21/329 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种氧化物p-i-n结器件及其制备方法,该器件包括衬底,在衬底之上形成的p型氧化物层,在p型氧化物层上形成的n型氧化物层,以及分别形成在p型氧化物层和n型氧化物层上用于连接引线的引出端和在p型氧化物层和n型氧化物层之间的铁电体势垒层;n型氧化物层和铁电体势垒层两层设置在的p型氧化物层的一侧,其占p型氧化物层面积的1/3~2/3,其余部分作为p型氧化物层的引出端;n型氧化物层表面作为n型氧化物层的引出端,在p型氧化物层和n型氧化物层的引出端上分别制作用于连接引线的贵金属焊盘;p型氧化物层和n型氧化物层均为金属性的;本发明的器件制备方法简单,结构易于实现,实现了单一器件功能的多样化。 | ||
搜索关键词: | 氧化物 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种氧化物p-i-n结器件,包括衬底,在衬底之上形成的p型氧化物层,在p型氧化物层上形成的n型氧化物层,以及分别形成在p型氧化物层和n型氧化物层上用于连接引线的引出端;其特征在于:还包括夹在所述p型氧化物层和所述n型氧化物层之间的铁电体势垒层;所述n型氧化物层和所述铁电体势垒层两层设置在所述的p型氧化物层的一侧,其占p型氧化物层面积的1/3~2/3,其余部分作为p型氧化物层的引出端;所述n型氧化物层表面作为n型氧化物层的引出端,在p型氧化物层和n型氧化物层的引出端上分别制作用于连接引线的贵金属焊盘;所述p型氧化物层和所述n型氧化物层均为金属性的。
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