[发明专利]一种光子晶体光限幅器的制作方法无效
| 申请号： | 200610165076.5 | 申请日： | 2006-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN1971395A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张晓玉;姚汉民;杜春雷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02F1/355 | 分类号： | G02F1/355;G02F1/35;G02F1/01;G03F7/20;G03F7/30;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 贾玉忠;卢纪 |
| 地址： | 610209*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种光子晶体光限幅器的制作方法，主要分为三步：微细加工技术制作光子晶体；将酞菁有机非线性材料掺入光敏胶中，得到混合体系；再将混合体系渗透入光子晶体的空气凹槽或空气柱中，通过紫外光照固化，得到光子晶体光限幅器。本发明的光子晶体可为一维光子晶体和二维光子晶体。一维光子晶体由二氧化硅和空气凹槽交替排列构成。二维光子晶体由空气柱在二氧化硅中呈周期结构排列。空气凹槽和空气柱通过光刻和反应离子刻蚀微细加工技术在二氧化硅基片上制作得到。本发明具有简单、低成本的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光子 晶体 限幅器 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种光子晶体光限幅器的制作方法，其特征在于包括以下步骤：(1)光刻或反应离子刻蚀微细加工技术制作一维或二维光子晶体；(2)将质量百分比为5-20％的酞菁掺入质量百分比为80-95％的光敏胶中，得到混合体系；(3)再将混合体系渗透入一维光子晶体空气凹槽或二维光子晶体空气柱中，通过紫外光照固化，得到光子晶体光限幅器。
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