[发明专利]涂敷显影装置及方法、计算机程序及记录有其的记录介质有效
| 申请号： | 200610165604.7 | 申请日： | 2006-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1979338A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | 石田省贵;山本太郎 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供以下技术：在基板上形成抗蚀剂膜并对液浸曝光后的基板进行显影处理的装置中，可抑制液浸曝光残留在基板上的水滴对抗蚀剂图案的显像带来的不良影响。若附着在基板上的液滴经过一段时间，则其尺寸急剧减小，这时，着眼于在基板的抗蚀剂膜上形成变质层(水印)，在液浸曝光后，在进入液滴的尺寸急剧减小的时间带之前的时间带上，进行基板的搬送控制，使得在洗净部洗净基板。具体地说，在从曝光装置中输出搬出准备信号时，优先于其他的搬送作业，接口部的基板搬送单元将搬送台上的基板搬送至洗净部。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 装置 方法 计算机 程序 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种涂敷、显影装置，在基板上涂敷抗蚀剂液以形成抗蚀剂膜，并在加热部中对在曝光装置中被液浸曝光后的基板进行加热处理，之后，在显影处理部中进行显影处理，其特征在于，包括：洗净液浸曝光后的基板表面的洗净部；向该洗净部交接液浸曝光后的基板的第一基板搬送单元；和控制部，在从液浸曝光的完成时刻开始的经过时间与液浸曝光时残留在基板上的液滴尺寸之间的关系中，在进入液滴尺寸急剧变小的时间带之前的时间带中，进行利用所述基板搬送单元进行的基板搬送控制，使得在洗净部洗净基板。
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