[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 200610168514.3 | 申请日: | 2006-12-13 |
公开(公告)号: | CN1988156A | 公开(公告)日: | 2007-06-27 |
发明(设计)人: | 幡手一成 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L27/082 | 分类号: | H01L27/082;H01L29/739 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥夌;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种提高集电极-发射极电流特性、缩短下降时间、特别是提高寄生半导体开关元件闭锁耐受性的半导体装置。本发明是由多个单元半导体元件组成的横向型半导体装置,各单元半导体元件由IGBT组成,包含:第1导电型的半导体衬底;设置在该半导体衬底内的第2导电型的半导体区;设置在该半导体区内的第1导电型的集电极层;在该半导体区中、与该集电极层隔开、设置得包围该集电极层的环形第1导电型基极层;设置在该基极层中,呈环形配置的第2导电型的第1发射极层,该第1发射极层和该集电极层之间的载流子移动用形成于该基极层内的沟道区进行控制,各个单元半导体元件设置得彼此相邻。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,是由多个单元半导体元件组成的横向半导体装置,其特征在于,各单元半导体元件由IGBT组成,其包含:第1导电型的半导体衬底;设置在该半导体衬底内的第2导电型的半导体区;设置在该半导体区内的第1导电型的集电极层;在该半导体区中,与该集电极层隔开,设置得包围该集电极层的环形第1导电型基极层;设置在该基极层中,呈环形配置的第2导电型的第1发射极层,该第1发射极层和该集电极层之间的载流子移动,用形成于该基极层内的沟道区进行控制,各个单元半导体元件设置得彼此相邻。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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