[发明专利]用于垂直磁记录的磁通引导层的侧屏蔽件制造方法无效

专利信息
申请号: 200610168679.0 申请日: 2006-12-22
公开(公告)号: CN1988001A 公开(公告)日: 2007-06-27
发明(设计)人: 阿曼达·贝尔;丹尼尔·W·比德尔;李邝;阿伦·彭泰克 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/11 分类号: G11B5/11;G11B5/127;G11B5/187;G11B5/39
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张波
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明提供一种用于垂直记录系统中的磁头,其具有新颖的屏蔽件结构,提供对于诸如来自写头的写线圈、成形层或返回极的外部磁场的突出的磁屏蔽。该屏蔽件结构构造为具有与成形层的底或前导表面基本共面的底或前导表面,但屏蔽件结构的全部或部分不和成形层一样厚,从而具有未延伸到与成形层的顶表面相同高度(沿拖尾方向)的顶表面。使屏蔽件延伸到比成形层低的水平通过减小从写极的磁通泄漏而改善了磁性能,并且还提供了诸如在写极的制造期间的制造优势。这些制造优势包括使屏蔽件在写极的离子研磨期间被覆盖以例如氧化铝的保护层的优点。
搜索关键词: 用于 垂直 记录 引导 屏蔽 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于垂直磁记录的磁写头,该写头包括:返回极;成形层,与所述返回极磁连接;写极,磁连接到该成形层;导电线圈,其一部分经过所述成形层和所述返回极之间;以及磁屏蔽件;且其中所述成形层具有与所述屏蔽件的第一表面共面的第一表面,并且其中所述成形层比所述屏蔽件的至少一部分更厚。
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