[发明专利]液晶显示装置及其制造方法

摘要

本发明公开了一种液晶显示装置及其制造方法，其通过由一个掩模工艺形成源极/漏极和像素电极并略去用于像素电极的接触孔掩模工艺来减少掩模数量，可以使制造工艺简化，并且其可以通过由衍射曝光形成有源图案和存储电极来在不增加掩模工艺的情况下增加存储电容器的电容。因此，减少了用于形成TFT的掩模数量以简化制造工艺并削减生产成本。并且由于减小了像素中的存储电容器的面积，因此可以提高孔径比。

主权项

1、一种制造液晶显示装置的方法，该方法包括以下步骤：提供被分成像素单元和电路单元的第一基板；在所述像素单元和所述电路单元中形成多个有源图案；在所述第一基板上形成第一绝缘膜；在所述像素单元和所述电路单元中形成多个栅极，并在所述像素单元中形成多条公共线；在所述多个有源图案的多个预定区中形成多个p+源区/漏区；在所述第一基板上形成第一层间绝缘膜和第二层间绝缘膜；通过部分地去除所述第一绝缘膜、所述第一层间绝缘膜以及所述第二层间绝缘膜来形成露出了所述多个有源图案的所述多个源区和所述多个漏区的多个第一接触孔和多个第二接触孔；形成通过所述多个第一接触孔和所述多个第二接触孔分别电连接到所述多个有源图案的所述多个源区和所述多个漏区的多个源极和多个漏极，并形成连接到所述多个漏极的多个像素电极；提供第二基板；在所述第一基板和所述第二基板中的任何一个上形成液晶层；以及将所述第一基板与所述第二基板接合起来。