[发明专利]磁记录介质和磁记录/再现装置无效
申请号: | 200610168781.0 | 申请日: | 2006-12-20 |
公开(公告)号: | CN1988004A | 公开(公告)日: | 2007-06-27 |
发明(设计)人: | 前田知幸;高桥研;冈正裕 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;国立大学法人东北大学;昭和电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/66 | 分类号: | G11B5/66;G11B5/667;G11B5/73;H01F10/16 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 杨晓光;李峥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种磁记录介质(10),其中形成多层底层(7),多层底层(7)包括包含对齐在(111)平面的Cu的第一底层(3),以及形成在第一底层上的并且包含Cu和氮作为主要成分的第二底层(4)。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 再现 装置 | ||
【主权项】:
1.一种磁记录介质,其特征在于包括:基底;形成在所述基底上的软磁层;多层底层,包括形成在所述软磁层上的包含铜作为主要成分,并且包含基本上对齐在(111)平面的具有面心立方晶格结构的晶粒的第一底层,以及形成在第一底层上的并且包含铜和氮作为主要成分的第二底层;以及形成在所述多层底层上的,包含钴作为主要成分,并且包含基本上对齐在(0001)平面的具有六方紧密堆积结构的晶粒的垂直磁记录层。
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