[发明专利]制造具有纳米结构的衬底的方法、发光器件及其制造方法有效
| 申请号： | 200610170063.7 | 申请日： | 2006-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN1983657A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 金钟旭;曹贤敬 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社;LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 钟强;谷惠敏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种制造具有纳米结构的衬底的方法、使用该结构的发光器件及其制造方法，其中用于生长发光器件的衬底形成有纳米结块，并且通过使用该结块作为掩模而蚀刻衬底，以允许在衬底上形成纳米结构，从而能够生长晶体缺陷减少、可靠性提高、质量好的发光结构，并且其中发光结构以纳米结构形成，以提高光提取效率。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 具有 纳米 结构 衬底 方法 发光 器件 及其 | ||
【主权项】：
1.一种制造具有纳米结构的衬底的方法，包括：在所述衬底上形成保护膜；在所述保护膜上形成包括金属的薄膜层；对所述包括金属的薄膜层执行热处理；在所述保护膜上形成多个纳米结块；用所述多个纳米结块作掩模来蚀刻所述保护膜；除去所述多个纳米结块；用所述蚀刻的保护膜作掩模来蚀刻所述衬底的顶面，以在所述衬底上形成多个纳米结构；以及除去所述保护膜。
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