[发明专利]改进缺陷度的多层抛光垫及其制造方法无效
| 申请号： | 200610171190.9 | 申请日： | 2006-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN1986162A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | D·B·詹姆斯 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D17/00 | 分类号： | B24D17/00;B24B29/02;H01L21/304;C08J5/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用来抛光半导体基板的复合化学机械抛光垫，该抛光垫包括：具有第一可压缩性的抛光层；具有第二可压缩性的中间层，所述第二可压缩性小于第一可压缩性；具有第三可压缩性的底层，所述第三可压缩性大于第二可压缩性，小于第一可压缩性；所述抛光层中孔隙结构的含量至少为50体积％。本发明提供了减少缺陷且提高抛光性能的多层水基抛光垫。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 缺陷 多层 抛光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用来抛光半导体基板的复合化学机械抛光垫，该抛光垫包括：具有第一可压缩性的抛光层；具有第二可压缩性的中间层，所述第二可压缩性小于第一可压缩性；具有第三可压缩性的底层，所述第三可压缩性大于第二可压缩性，小于第一可压缩性；所述抛光层中孔隙结构的含量至少为50体积％。
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