[发明专利]垂直磁记录盘以及制造该盘的方法无效
| 申请号： | 200610171212.1 | 申请日： | 2006-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1988005A | 公开（公告）日： | 2007-06-27 |
| 发明（设计）人： | 欧内斯特·E·马林尼罗 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/738;G11B5/851;H01F10/16 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种垂直磁记录盘，具有包含添加的氧化物或多种氧化物的颗粒钴合金记录层(RL)、在“软”磁底层(SUL)上作为交换中断层的中间层(IL)、以及在IL与RL之间的超薄成核膜(NF)。在制造该盘的方法中，在相对低的溅射压力下沉积IL，由此降低RL和保护覆层(OC)的粗糙度，而以显著较高的溅射压力沉积NF和RL。所获得的盘与通过以较高溅射压力沉积IL而没有NF的类似盘相比，具有良好的记录特性和增强的抗腐蚀性。NF可以是平均厚度小于大约1纳米的不连续膜。 | ||
| 搜索关键词： | 垂直 记录 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种垂直磁记录介质，包括：衬底；所述衬底上的导磁材料的衬层；形成在所述衬层上的非磁中间层；在所述衬层上并包括颗粒铁磁Co合金的垂直磁记录层；以及在所述中间层与所述记录层之间的成核膜，所述成核膜具有小于大约1.5nm的厚度。
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