[发明专利]制造CMOS图像传感器的方法

摘要

一种制造CMOS图像传感器的方法，其中在焊盘电极上还形成抗反射涂层，因而可避免焊盘电极被接续的光蚀刻处理的显影剂腐蚀，并且焊盘电极与外部驱动电路无缺陷地彼此连接。该方法包括步骤：设置分成像素阵列单元和逻辑电路单元的半导体衬底，在半导体衬底上形成互连，在包括所述互连的整个表面上形成层间绝缘层，将金属材料和抗反射涂层沉积在层间绝缘层上，并且将所述沉积的金属材料和抗反射涂层图案化以形成焊盘电极，在包括该焊盘电极的整个表面上形成保护层，选择性除去焊盘电极上的保护层形成通孔，在保护层上形成滤色层，形成覆盖滤色层的平坦化层，在平坦化层上形成与滤色层对应的多个微透镜，以及除去通过通孔露出的焊盘电极上的抗反射涂层。

主权项

1.一种制造CMOS图像传感器的方法，该方法包括以下步骤：设置分成像素阵列单元和逻辑电路单元的半导体衬底；在该半导体衬底上形成多个互连；在包括所述互连的整个表面上形成层间绝缘层；将金属材料和抗反射涂层沉积在该层间绝缘层上，并将所述沉积的金属材料和抗反射涂层图案化以形成焊盘电极；在所述包括该焊盘电极的整个表面上形成保护层；选择性地除去该焊盘电极上的保护层以形成通孔；在该保护层上形成滤色层；形成覆盖该滤色层的平坦化层；在该平坦化层上形成与该滤色层相对应的多个微透镜；以及除去通过该通孔暴露的该焊盘电极上的抗反射涂层。