[发明专利]使用曝光掩模的曝光方法有效
| 申请号： | 200610171448.5 | 申请日： | 2004-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN1979344A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | 李树雄;白尚润 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/1333;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种使用曝光掩模的曝光方法。一种采用掩模的分区曝光方法包括：提供具有薄膜的基板；在所述薄膜上形成光刻胶层，其中将所述光刻胶层分为至少第一照射区域和第二照射区域；由曝光装置通过所述掩模将第一光照射到所述第一照射区域上；将所述掩模设置在所述第二照射区域中；以及由曝光装置通过所述掩模将第二光照射到所述第二照射区域上，其中对所述第二照射区域的左侧进行曝光的第二光的强度与对所述第一照射区域的右侧进行曝光的第一光的强度基本相同。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1、一种采用掩模的分区曝光方法，该方法包括：提供具有薄膜的基板；在所述薄膜上形成光刻胶层，其中将所述光刻胶层分为至少第一照射区域和第二照射区域；由曝光装置通过所述掩模将第一光照射到所述第一照射区域上；将所述掩模设置在所述第二照射区域中；以及由曝光装置通过所述掩模将第二光照射到所述第二照射区域上，其中对所述第二照射区域的左侧进行曝光的第二光的强度与对所述第一照射区域的右侧进行曝光的第一光的强度基本相同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG.菲利浦LCD株式会社，未经LG.菲利浦LCD株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610171448.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种连排插头端子及其制造方法
- 下一篇：一种防高温高压用电池安全装置
