[发明专利]电光装置、其制造方法以及电子设备有效
| 申请号： | 200610171492.6 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1991537A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 横川孙幸;中村定一郎 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1333;G02F1/1335;G02F1/1337;G09F9/35 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的电光装置使取向膜和该取向膜的下层膜间的紧密接合性提高，防止水分向有效像素区域进入而使耐湿性提高，能防止取向膜在摩擦处理时从该取向膜的下层膜剥离。电光装置通过密封材料(52)对向配置第1基板(10)和第2基板(20)，在第1基板(10)和第2基板(20)之间的至少有效像素区域存在有液晶(50)；其特征在于，具备：形成于第1基板(10)的紧接着地位于密封材料(52)的下方的取向膜(16)，和取向膜(16)的下层的下层膜(60)；在取向膜(16)和下层膜(60)之间的平面性地至少覆盖密封材料(52)的区域(41)，形成与取向膜(16)及下层膜(60)紧密接合的透明导电膜(40)。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 装置 制造 方法 以及 电子设备 | ||
【主权项】：
1.一种电光装置，其通过密封材料对向配置有第1基板和对向于该第1基板的第2基板，在前述第1基板和前述第2基板之间的至少有效像素区域存在有液晶；其特征在于，具备：取向膜，其形成于前述第1基板和前述第2基板的至少一方，紧接着地位于前述密封材料的下方，使前述液晶进行取向，和位于前述取向膜的下层的下层膜；在前述取向膜和前述下层膜之间的、平面性地至少覆盖前述密封材料的区域，形成有与前述取向膜及前述下层膜紧密接合的透明导电膜。
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