[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200610171747.9 | 申请日： | 2006-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN1991591A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | K·J·J·M·扎尔;J·J·奥坦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 范晓斌;刘华联 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考该基底台的变形来改善对基底位置控制的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：布置成支撑基底的基底台；配置成将调制过的辐射光束投影到基底上的投影系统；配置成在曝光过程中将液体提供到投影系统和基底之间的区域中的液体供给系统；与基底台物理地隔开的盖板，其在曝光过程中沿径向定位在基底的外侧，并配置成提供面对投影系统的表面，该表面与基底基本上相邻且平齐；以及基底台温度稳定装置，其配置成通过控制一部分盖板的温度来减小一部分基底台与对应目标温度的温度偏差。
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