[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 200610171860.7 | 申请日： | 2006-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN1971429A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | H·詹森;S·M·J·科尼利森;S·N·L·唐德斯;R·F·德格拉夫;C·A·胡根达姆;H·雅各布斯;M·H·A·利德斯;J·J·S·M·默坦斯;B·斯特里夫柯克;J·－G·C·范德图尔恩;P·斯米茨;F·J·J·詹森;M·里彭 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王小衡;梁永 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在浸没光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙尺寸或区域和/或覆盖间隙来减少或防止浸没液体中的气泡形成。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种设置为将辐射束通过液体投射到衬底上的光刻投影设备，该设备包括配置为保持物体的支撑台，该物体包括传感器、衬底、密封板和盖板中的至少一个，其中物体和支撑台之间的间隙被保持为最小化以便最小化液体中的气泡形成。
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