[发明专利]光记录介质无效

专利信息
申请号: 200610171919.2 申请日: 2006-10-31
公开(公告)号: CN1971731A 公开(公告)日: 2007-05-30
发明(设计)人: 坂本哲洋;下马隆司;高川繁树;中野淳;藤田五郎 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/258;G11B7/26;G11B7/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 邸万奎;黄小临
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种光记录介质,包括衬底上的至少反射膜和覆盖层;组合凹坑和凸台的主数据被记录在衬底上;在所述反射膜上经过照射激光使一次写入记录成为可能;对于反射膜,通过由照射激光形成的标记记录子数据,用于一次写入记录;对于规定长度的凸台,再现信号电平在形成所述标记的部分上升;为通过物理复制制造的光盘记录介质形成标记,其中利用所述标记,再现电平在形成标记的部分下降;反射膜由Ag-合金膜Ag100-xXx (0<x<100)组成;而且X是从Ti,W,Ta,V,Mo,Nb和Zr中选出来的。
搜索关键词: 记录 介质
【主权项】:
1.一种光记录介质,其中在衬底上层叠并且形成至少一反射膜和一覆盖层;由凹坑和凸台的组合形成的主数据被记录在所述衬底上;通过照射激光、通过热记录,使得在所述反射膜上进行一次写入记录成为可能;对于所述反射膜,通过照射激光形成的标记记录子数据,用于一次写入记录;对于指定长度的所述凸台,在形成所述标记的部分的再现信号电平上升;为通过物理复制所述衬底的所述凹坑和凸台的表面形状而制造的光盘记录介质形成所述标记,其中通过所述标记,再现信号电平在形成所述标记的部分下降;所述反射膜由Ag-合金膜Ag100-xXx(0<x<100)制成;以及X是以下的至少一种或者多种中的一元素:Ti(钛),W(钨),Ta(钽),V(钒),Mo(钼),Nb(铌)和Zr(锆)。
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