[发明专利]具有可变筛孔的离子注入系统及使用其的离子注入方法无效

专利信息
申请号: 200610172141.7 申请日: 2006-12-29
公开(公告)号: CN101009191A 公开(公告)日: 2007-08-01
发明(设计)人: 李承熙;梁英守;金承彻;崔灿承;张圆培;金民锡 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01L21/265;H01L21/425;C30B31/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 戎志敏
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种离子注入系统包括:源部分、束线部分、具有压盘的目标腔室、和具有剂量杯和第一可变筛孔的法拉第部分,其中,压盘能够沿第二方向移动且支撑半导体衬底,并且第一可变筛孔包括具有沿第一方向的第一可调宽度的第一开口。
搜索关键词: 具有 可变 离子 注入 系统 使用 方法
【主权项】:
1.一种离子注入系统,包括:源部分;束线部分;具有压盘的目标腔室,压盘能够沿第二方向移动且支撑半导体衬底;以及法拉第部分,具有剂量杯和第一可变筛孔,其中第一可变筛孔包括具有沿第一方向的第一可调宽度的第一开口。
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