[发明专利]支持机构及使用支持机构的掩模载台有效
| 申请号： | 200610172712.7 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1991593A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 田中米太 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683;H01L21/027 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种支持机构，通过多个支持体支持掩模等平板时，可以补偿自重变形，并在保持平面的状态下对平板进行支持。在载台基座(11)上设置合计4个以上的高度不变的固定式支持体(1)、及高度可变的变位式支持体(2)。固定式支持体(1)具有通过旋转轴承安装在台座上的真空吸附部。变位式支持体(2)具有：使轴上下运动的气缸；通过旋转轴承安装在轴顶端的真空吸附部；限制轴的动作并固定高度的单元。由固定式支持体(1)的真空吸附部从背面保持掩模(20)，并在3点支持掩模(20)，并且对变位式支持体(2)的气缸只施加抵消掩模(20)自重变形的推力，并将掩模(20)顶起固定在所述位置，并由真空吸附部从背面保持掩模(20)。 | ||
| 搜索关键词： | 支持 机构 使用 掩模载台 | ||
【主权项】：
1.一种支持机构，通过多个支持体支持平板，其特征为：具有设置了支持体的基座，并且该支持体包括：高度不变的固定式支持体，通过旋转轴承安装在被安装在上述基座上的台座上，并具有从背面保持上述平板的真空吸附部；及高度可变的变位式支持体，该高度可变的变位式支持体具有：使轴上下运动的气缸；与上述轴连接的板状体；保持单元，通过上述板状体将上述轴的位置保持在一定的位置；真空吸附部，通过旋转轴承安装在上述轴的顶端，并从背面保持上述平板，上述固定式支持体和变位式支持体的合计为4个以上。
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