[实用新型]光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置无效
| 申请号： | 200620000441.2 | 申请日： | 2006-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN2888496Y | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | 张益彰;董陵祥;孙秉权;陈新豪 | 申请（专利权）人： | 广辉电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型有关于一种光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，包括：一槽体，容置该光致抗蚀剂涂布设备的一元件及一有机溶剂；至少一气体收集器，连接于该槽体；以及一气体排放管，连接该至少一气体收集器；其中，该至少一气体收集器收集该槽体内该有机溶剂的挥发性气体。本实用新型的洁净装置可有效率的清洗光致抗蚀剂涂布设备的元件，不仅可洁净元件中死角，更可减少保养人员暴露于有机溶剂中的时间。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂涂 布设 元件 洁净 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂涂布设备的元件洁净装置，用以洁净一光致抗蚀剂涂布设备的元件，其特征在于，包括：一槽体，用以容置该光致抗蚀剂涂布设备的一元件及一有机溶剂；至少一气体收集器，连接于该槽体；一气体排放管，连接该至少一气体收集器；其中，该至少一气体收集器收集该槽体内该有机溶剂的挥发性气体。
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