[实用新型]高真空卷式镀膜机构无效

专利信息
申请号: 200620019050.5 申请日: 2006-03-31
公开(公告)号: CN2921038Y 公开(公告)日: 2007-07-11
发明(设计)人: 杨成杰;林志煌 申请(专利权)人: 英志企业股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种高真空卷式镀膜机构,主要包含有两真空腔体及至少一组以上的溅镀装置所构成,其中真空腔体是以腔室及一盖体所构成,腔室内部设置有卷布轴、传动轴、滚轴、校正滚动条及张力控制滚动条等带动及输送被镀素材的机傋,两真空腔体内部皆设有卷布轴,该卷布轴是将被镀素材固定设置,被镀素材为成卷绕设在卷布轴,被镀素材是分别绕经传动轴、滚轴、校正滚动条、张力控制滚动条,并进入溅镀装置内进行溅镀作业,以提供被镀素材具有单面或是双面的镀膜层,经过高压放电溅镀的被镀素材再经张力控制滚动条、校正滚动条的中心校正、整平后将完成镀附薄膜的被镀素材卷收成卷。
搜索关键词: 真空 镀膜 机构
【主权项】:
1、一种高真空卷式镀膜机构,其特征在于,该机构是由两真空腔体及至少一组以上的溅镀装置所组成;其中,真空腔体是由腔室及一盖体所构成,设置有用于固定被镀素材的卷布轴,用来传导绕性素材运动的传动轴和滚轴,以及校正滚动条,张力滚动条;两真空腔体之间设置进行溅镀作业的溅镀装置。
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