[实用新型]光学元件面形修复的刻蚀装置无效
| 申请号： | 200620035934.X | 申请日： | 2006-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN200967788Y | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 许乔;侯晶;张清华;王健;雷向阳;周礼书;陈宁 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 成都虹桥专利事务所 | 代理人： | 蒲敏 |
| 地址： | 610041四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种对光学元件的面形进行高精度修复的刻蚀装置，包括装架、刻蚀头、三维移动平台和计算机，所述刻蚀头安装在三维移动平台上，三维移动平台通过控制线与计算机相连，所述刻蚀头由放置易挥发有机溶剂的容器和刻蚀液容器组成，所述容器设置在刻蚀液容器的外部四周，所述容器上端开口，所述刻蚀液容器上设置有刻蚀液出口。本实用新型由于采用由易挥发的有机溶液对刻蚀区域进行限制，实现了可控的“化学磨头”效果，对光学元件“污染”较少，可以有效避免传统加工中引进的抛光原料的杂质和加工过程中产生的亚表面缺陷，可以对目前较为困难的薄基片和中等口径的光学元件进行高精度、无污染的面形修复。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 修复 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
1、光学元件面形修复的刻蚀装置，其特征在于：包括装架(1)、刻蚀头(2)、三维移动平台(3)和计算机(7)，所述刻蚀头(2)安装在三维移动平台(3)上，三维移动平台(3)通过控制线与计算机(7)相连，所述刻蚀头(2)由放置易挥发有机溶剂的容器(9)和刻蚀液容器(10)组成，所述容器(9)设置在刻蚀液容器(10)的外部四周，所述容器(9)上端开口，所述刻蚀液容器(10)上设置有刻蚀液出口(11)。
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